TEM 样品制备有哪些方法？

TEM 样品需制备成电子束可穿透的超薄样品（<100 nm）。常用方法：1）FIB 原位制样（定点取样，适合半导体和界面观察）；2）离子减薄（机械预减薄+离子束最终减薄）；3）超薄切片（适合高分子和生物样品）；4）电解双喷（适合金属薄膜）；5）粉末样品可直接分散在铜网碳支持膜上。