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HORIBA EV 2.0 OES 等离子体发射终点光谱仪 适合用于金属、矿物、环境、食品、材料和合规筛查中的元素含量控制。选型时不要只看型号名称,建议同时确认样品类型、检测目标、通量、执行标准、数据输出和后续维护要求。现有资料中该产品的重点信息包括:EV 2.0 是一款专为半导体工艺设计的实时监测系统,支持光发射光谱(OES)和多波长干涉测量(INT),适用于干法蚀刻、等离子清洗及PECVD等工艺。该系统配备Sigma_P软件,提供配方创建与管理功能,具备自动终点检测能力,优化了工艺流。