GD Profiler 2
Profiler 2辉光放电光谱仪是一款用于解析镀层结构和优化镀层工艺的强大工具，广泛应用于金属冶金、半导体器件、LED芯片等领域。该设备具有高动态检测器（HDD）、脉冲式射频辉光源及Polyscan多道扫描光谱仪等先进功能，能够快速准确地分析各类导体和非导体复合镀层，覆盖从ppm至100%的浓度范围，光谱范围从110nm至800nm。其强大的Quantum软件和灵活的单色仪选项进一步提升了数据处理能力。该仪器符合ISO14707和16962标准，适用于多种镀层材料的研发和质量控制。
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解密镀层工艺、解析镀层结构——Profiler 2
辉光放电光谱仪是解密镀层工艺、解析镀层结构的强有力手段，可以通过元素变化获得镀层结构、层间扩散、元素富集、表面处理、镀层均一性等信息，从而改善工艺条件等。主要应用行业有金属冶金、半导体器件、LED芯片、薄膜太阳能电池、锂电池阴阳、光学玻璃、核材料等。
GD-Profiler 2 作为超快镀层分析的理想工具，非常适合于导体和非导体复合镀层的分析，操作简单、便于维护，是镀层材料研发、质控的理想工具。
· 使用脉冲式射频辉光源，可有效分析热导性能差以及热敏感的样品。
· 采用多项技术，如高动态检测器（HDD），可测试ppm-100%的浓度范围，Polyscan多道扫描的光谱分辨率为18pm~25pm等。
· 分析速度快（2-10nm/s）
技术参数：
1、射频发生器-标准配置、复合D级标准、稳定性高、溅射束斑为平坦、等离子体稳定时间短，表面信息无任何失真。
2、脉冲工作模式既可以分析常规的涂/镀层和薄膜，也可以很好地分析热导性能差和热易碎的涂/镀层和薄膜。
3、Polyscan多道（同时）光谱仪可全谱覆盖，光谱范围从110nm-800nm，可测试远紫外元素C、H、O、N和Cl。
4、HORIBA的原版离子刻蚀全息光栅保证了仪器拥有大的光通量，因而拥有卓越的光效率和灵敏度。
5、高动态检测器（HDD）可快速、高灵敏的检测ppm-100%含量的元素。动态范围为5×1010。
6、宽大的样品室方便各类样品的加载。
7、功能强大的Quantum软件可以灵活方便的输出各种格式的检测报告。
8、HORIBA独有的单色仪（选配）可大地提高仪器灵活性，可实现固定通道外任意一个元素的同步测试，称为n+1。
9、适用于ISO14707和16962标准。
仪器原理：
辉光放电腔室内充满低压氩气，当施加在放电两的电压达到一定值，超过激发氩气所需的能量即可形成辉光放电，放电气体离解为正电荷离子和自由电子。在电场的作用下，正电荷离子加速轰击到（阴）样品表面，产生阴溅射。在放电区域内，溅射的元素原子与电子相互碰撞被激化而发光。
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